2.2 Odmašťování a čištění povrchu kovů, elektrosoučástek a jiných materiálů a výrobků ostatními organickými rozpouštědly podle § 3 písm. c)
2.2.1 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel menší než 0,6 tuny je malý zdroj.
2.2.2 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel v rozsahu od 0,6 tuny do 2 tun je střední zdroj.
2.2.3 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel nad 2 tuny je velký zdroj.
2.2.4 Odmašťovna splňující definici § 2 písm. c) je zvláště velkým zdrojem znečišťování ovzduší.
2.2.5 Odmašťování mimo prostory odmašťoven nebo lakoven s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel do 0,6 tuny je malý zdroj.
Prahové spotřeby rozpouštědel a emisní limity jsou stanoveny takto:
| činnost | prahová spotřeba rozpouštědla | emisní limit TOCA) | emisní limit fugitivních emisíB) |
|---|---|---|---|
| t/rok | mg/m3 | % | |
| odmašťování a čištění povrchů organickými rozpouštědly | 0,6 až 2 | 75 | 20 |
| 2 až 10 | 75 | 20 | |
| > 10 | 50 | 15 |
Poznámka:
A. Hmotnostní koncentrace těkavých organických látek vyjádřených jako celkový organický uhlík ve vlhkém odpadním plynu při normálních stavových podmínkách.
B. Podíl hmotnosti fugitivních emisí a hmotnosti vstupních rozpouštědel.