a. Provozní zařízení „řízené uloženým programem“ pro chemické nanášení v parní fázi (CVD), která mají všechny následující charakteristiky:
Viz také 2B105.

1. Proces modifikovaný pro jedno z dále uvedeného:

a. Pulzační CVD;

b. Řízené nukleační tepelné nanášení (CNTD); nebo

c. Plazmou prováděné nebo podporované CVD; a

2. Některou z následujících:

a. Vysokovakuové (0,01 Pa nebo méně) rotační ucpávky; nebo

b. Řízení tloušťky povlaku in situ;