b) v období do 31. prosince 2008 na používání jako rozpouštědel při jemném čištění elektrotechnických a jiných součástek v leteckém a kosmickém průmyslu,
b) v období do 31. prosince 2008 na používání jako rozpouštědel při jemném čištění elektrotechnických a jiných součástek v leteckém a kosmickém průmyslu,