4.2.3.2 Vyvíjení
Na desku se nanese 1 μl roztoku vzorku (4.2.3.1) a 1 μl každého z pěti referenčních roztoků (4.2.1.18). Pečlivě se vysuší v mírném proudu dusíku a deska se vyvíjí rozpouštědly (4.2.1.16.1 nebo 4.2.1.16.2). Deska se usuší co nejrychleji pod dusíkem, aby nedošlo k oxidaci thiolů.