(7) V zariadeniach na úpravu náterovými látkami sa musí zabezpečiť, aby koncentrácia výparov v nijakom mieste nepresiahla 25 % spodnej hranice výbušnosti. Výpary kvapalín a častice náterových látok rozptýlené pri striekaní sa musia okrem toho odsávať miestne, prípadne celkovo, ak použitá technológia zaručuje malý rozptyl.