2. Zařízení speciálně konstruovaná pro zařízení specifikovaná v 3B001.e., a která mají některou z dále uvedených charakteristik:

a. Navržena nebo optimalizována pro vytvoření kritických rozměrů 0,3 μm nebo menších s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo

b. Navržena pro generování méně než 0,04 částic/cm² s měřitelným rozměrem částice větším než 0,1 μm v průměru;