5.2.2 Vyvíjení
Deska se vloží do komory předem propláchnuté dusíkem (3.8) a nasycené jedním ze čtyř rozpouštědel (3.22) a nechá se vyvíjet při laboratorní teplotě (20 až 25 °C) ve tmě, dokud čelo rozpouštědla nedosáhne vzdálenosti asi 15 cm od startovací linie.
Deska se vyjme a usuší pod atmosférou dusíku (3.8) při laboratorní teplotě.